ASML：现有技术创新足以实现1nm工艺摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间
导读 《科创板日报》17日讯，现有现ASML日前表示，技术继续间目前的创新长技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。足实至更此外，艺摩光刻系统分辨率的尔定改进... 《科创板日报》17日讯，ASML日前表示，生效目前的年甚技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。现有现此外，技术继续间光刻系统分辨率的创新长改进（预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差（EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的足实至更发展路线来看，未来十年甚至更长时间内，艺摩技术创新将使摩尔定律继续生效。尔定
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